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过渡金属离子Ni+与甲醇、乙醇团簇反应的质谱研究

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一、实验目的和意义

化学气相淀积(CVD)工艺是集成电路制造中用来制备薄膜的一种重要方法,CVD的基本理论涉及到许多方面,包括气相化学反应、热力学、动力学、热传导、流体力学、表面反应、等离子反应、薄膜物理等。

为了使学生能够更深入、更直观地理解化学气相淀积工艺的工艺原理,掌握不同工艺条件对化学气相淀积工艺淀积效果的影响,这里采用器件与工艺TCAD仿真工具Silvaco来对化学气相淀积工艺进行模拟实验。

二、实验原理

淀积时间、淀积速率等参数都会影响化学气相淀积工艺的效果,通过改变这些参数可以分析
一、实验目的和意义 化学气相淀积(CVD)工艺是集成电路制造中用来制备薄膜的一种重要方法,CVD的基本理论涉及到许多方面,包括气相化学反应、热力学、动力学、热传导、流体力学、表面反应、等离子反应、薄膜物理等。 为了使学生能够更深入、更直观地理解化学气相淀积工艺的工艺原理,掌握不同工艺条件对化学气相淀积工艺淀积效果的影响,这里采用器件与工艺TCAD仿真工具Silvaco来对化学气相淀积工艺进行模拟实验。 二、实验原理 淀积时间、淀积速率等参数都会影响化学气相淀积工艺的效果,通过改变这些参数可以分析
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